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    Ultratech /Cambridge Nano Tech 公司简介

    ALD原子层沉积设备



    Ultratech成立于2003年,由全球知名原子层沉积设备(ALD)研究室:哈弗大学戈登实验室发展而来。


    目前Ultratech/CambridgeNanoTech有成百上千台设备遍布全球各个研发领域,Ultratech/CambridgeNanoTech也已成为全球研发及工业领域领先的ALD厂家。行业内以我们的Savannah设备为主题发表了上千篇学术论文。


    我们在此基础上研发了Phoenix系列的ALD设备并不断扩展我们的ALD和等离子增强ALD设备以满足我们客户发展需要。




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    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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