• FHR镀膜设备及组备件

    概述:FHR专业致力于PVD、PECVD镀膜设备,RIE等离子刻蚀设备,新一带的FLA闪光灯退火设备,代表新一代半导体、微电子、纳米薄膜沉积技术的ALD 原子层沉积设备,拥有专利技术的高密度等离子体ICP源、磁控溅射源,气路控制系统,在线工艺检测控制系统,高性能真空零部件等的设计制造。

    半导体领域设备

    FHR.Star

    fhr放射式磁控溅射台

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    FHR.RIE

    德国进口fhr刻蚀设备

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    EOSS-500

      FHR高精密真空镀膜机          

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    FHR.Box

     FHR磁控溅射台   

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    FHR.Roll

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    FHR.Roll 系列

     FHR.Roll1600   

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    紫外臭氧清洗机

    FHR紫外臭氧清洗机

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    真空靶材

    磁控溅射设备专用靶材

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    FHR.PECVD系列

    FHR等离子增强化学气相沉积设备

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    FHR.FLA产品

    FHRFLA闪光灯退火炉

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    光伏领域设备

    FHR.Roll系列

    卷对卷镀膜设备

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    FHR.Line系列

    FHR太阳能薄膜电池设备

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    光热领域设备

    concentrated solar power

    太阳能集热管镀膜设备

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    光学领域设备

    FHR光学镀膜设备

    光学薄膜设备

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    实验室标准设备

    FHR实验室 等离子增强CVD设备

    实验室PECVD设备

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    FHR实验室plasma cleaning system

    实验室等离子预清洗设备

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    FHR实验室反应离子刻蚀设备

    实验室反应离子刻蚀设备

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    FHR实验室离子束刻蚀和反应离子刻蚀设备

    离子束刻蚀和反应离子刻蚀设备

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    FHR实验室蒸发设备

    实验室蒸发设备

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    FHR实验室双源磁控溅射台

    实验室双源磁控溅射台

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    FHR实验室闪光灯退火设备

    FHR实验室闪光灯退火设备

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    FHR单源磁控溅射台

    德国进口单源实验室磁控溅射台

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    ALD原子层沉积设备

    实验室ALD原子层沉积设备

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    FHR实验室设备

    实验室小型设备

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    特殊应用设备

    汽车反光镜镀膜设备

    汽车反光镜镀膜设备

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    FHR车膜和建筑玻璃幕墙

    车膜和建筑玻璃幕墙

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    UPS03 气体控制系统

    UPS 03 多用途工艺控制系统 UPS03多用途工艺控制系统是专门针对快速工艺控制而设计。主要用途是基于控制器的快速响应实现对真空工艺过程中工作气压的精确控制。 例如:UPS 03对反应溅射过程中的反应气体流量进行动态控制而获得稳定工艺。UPS在这些应用中将显示其特有的优势。所选用的PVC 03和PVC 04(与电气绝缘的电压连接)压 电陶瓷阀执行元件。所有模拟输出为0...10 V的器件和PFEIFFER公司的真空规可作传感器用。UPC 03控制器被设计成为具有自我响应极为快速功能

    气体控制系统 控制单元 pcv03 04

    气体控制系统控制单元pcv0304

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    universal process system UPC 03

    气体控制系统

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    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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