• Annealsys 快速退火炉

    概述:

    快速退火炉 (As-Micro, As-One, As-One200, As-Master, As-Premium, Zeith100) 。

    2-inch 至 8-inch快速退火炉 (RTP).最高至 1500°C 和 250°C/s 。

    Annealsys快速退火炉使用灯管加热,可用于硅、化合物半导体、光伏、MEMS及其他材料的不同应用。 

    传统的工艺包含离子注入后退火、接触式退火、结晶化和致密化。通常也使用快速热氧化和氮化工艺。 Annealsys可提供研发快速热硒化法工艺特殊解决方案。

    快速退火炉

    As-one

    4-inch(100mm)及6-inch(150mm)冷腔室壁快速退火炉

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    As-Micro

    实验室用3-inchRTP快速退火炉。双腔版本防止交叉污染。

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    As-master

    200mm多功能RTP快速退火炉(可选)RTCVD性能室温至1500°C真空至10-6Torr.

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    Zenith100 .

    4-inch多功能RTP高温快速退火炉石墨烯cvd室温至2000°C

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    As-Premium.

    200mm多功能RTP快速退火炉(可选)RTCVD性能室温至1300°C

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    LPCVD化学气相沉积炉

    LPCVD化学气相沉积炉.

    4-inchLPCVD炉用于小型生产.可提供单管或双管炉

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    spray CVD 喷射化学气相沉积

    spray CVD 喷射化学气相沉积 (喷雾化学气相沉积) .

    2-inch实验室用SprayCVD

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    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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