• MPA CVD镀膜设备

    概述:MPA Industrie 专业致力于镀膜或渗透用CVD化学气相沉积设备的研发与生产 。 MPA研发生产的CVD设备可在真空至常压下工作,温度范围为500 to 2200°C。反应器可用区域直径在100 mm 及 3000 mm之间。 MPA industrie 已设计1,5 inch 至 7 inch硫化床,用于高温碳应用。多数CVD应用下设备可在10-2 mbar 至 数百个mbar的真空下操作。此技术下设备生长得膜层质量(密度,均匀性)较好,且消耗气体少。

    CVD镀膜设备

    LPCVD

    硬金属上镀膜

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    LPCVD

    LPCVD反应器用于ZnS沉积

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    CVD

    介质温度沉积硼

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    CVD

    法国MPA设备   

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    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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