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    ANNEALSYS

                         

    实验室用3英寸Rapid Thermal Processing(RTP)设备


    双腔版本防止交叉污染


    应用


    快速热处理 (RTA, RTO...)

    离子注入退火

    结晶化和致密化

    硒化和硫化

    其他


    具体参数


    3英寸真空快速退火炉(快速热处理炉)RTP

    便携式桌面配置

    用于研发

    样品尺寸:平方毫米 至 3-inch 直径

    可选 3-inch 基片托适用 2-inch 样品

    工艺腔室带石英管和不锈钢法兰

    管式红外卤灯炉

    极快的升温速率

    带石英托盘的水平移动门板,便于装卸基片

    配备热电偶


    性能和特征


    温度范围: 室温 至 1250°C

    2英寸硅片升温速率可达250°C/s, 3英寸基片可达200°C/s

    带质量流量控制器的气体混合性能 




     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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