• As-one


    ANNEALSYS


    4英寸冷腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉)


    (100 mm) 和 6-inch (150 mm) 版本


    应用


    RTA (快速热退火)

    RTO (快速热氧化)

    扩散,接触式退火

    化合物半导体退火

    氮化, 硅化, 硒化, 硫

    结晶化及致密化


    具体参数


    真空快速退火炉(快速热处理炉)可处理4-inch 和 6-inch 硅片

    真空快速退火炉(快速热处理炉)落地设计,占地面积小

    真空快速退火炉(快速热处理炉)高可靠性,低拥有成本

    真空快速退火炉(快速热处理炉)不锈钢冷腔室壁技术

    真空快速退火炉(快速热处理炉)高工艺复现性

    真空快速退火炉(快速热处理炉)超洁净及无污染环境

    真空快速退火炉(快速热处理炉)高冷却速率,低记忆效应

    真空快速退火炉(快速热处理炉)可提供高真空版本 (10-6 mbar)

    真空快速退火炉(快速热处理炉)高温计和热电偶控制

    真空快速退火炉(快速热处理炉)快速数字PID温度控制器

    真空快速退火炉(快速热处理炉)边缘高温计视口,确保用于化合物半导体和小型样品

    基片托的温度控制


    性能和特征


    温度范围: 室温 至 1500°C

    升温速率可达200°C/s

    特殊配置下冷却速率达 100°C/s

    带质量流量控制器的气体混合性能带质量流量控制器的气体混合性能

    真空范围: 常压 至 10-6 Torr 

     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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