• As-Premium.


    ANNEALSYS AS-Premium


              

    应用


    RTA (Rapid Thermal Annealing) 快速热退火

    RTO (Rapid Thermal Oxidation) 快速热氧化

    Diffusion 扩散

    Selenization, sulfuration 硒化,硫化

    Compound semiconductor annealing 化合物半导体退火

    Nitridation, Silicidation 氮化,硅化

    Crystallization and Densification 结晶化,致密化


    具体参数


    设备用于处理200x200 mm²基片

    体积最小化,便于维护

    稳定性高,拥有成本低

    不锈钢冷腔室壁技术使得设备工艺复现性高,可实现超洁净无污染环境及高冷却速率和低记忆效应

    灯管可配置在顶部,底部或两端。多个灯炉控制区域增强温度稳定性。

    高温计和热电偶结合快速数字温度控制器,可实现精确的高低温控制

    边缘高温计视窗加强控制用于化合物半导体和小型样品的基片托温度

    标配真空性能。经客户要求,可提供高真空版本,本地压强可抽至10-6 mbar




     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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