• spray CVD 喷射化学气相沉积 (喷雾化学气相沉积) .


    ANNEALSYS



    2-inch 实验室用 SprayCVD


    同一腔室实现沉积和退火


    应用


    Spray CVD 和 RTA 在同一腔室完成

    离子注入后退火

    化合物半导体退火

    结晶化及致密化


    具体参数


    Two-inch 快速热处理设备,用于 Spray CVD 和 退火工艺

    专为研发设计

    样品尺寸 : 数平方毫米 至 2-inch 直径

    腔室带石英管和不锈钢法兰

    管式红外卤灯炉

    极快的升温速率

    带石英托盘的水平运动的门,便于装卸基片及安装热点偶


    性能和特征


    快速温升速率达 250°C/s

    基源混合性能带 Atoki 蒸发器

    真空范围: 常压 至 10-6 Torr

    热电偶温度测量及快速数字PID温度控制器确保温度范围内高度温度的温度控制 

    可选高温计控制 

    设备提供完整计算机控制性能及兼容Windows的软件 


     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
    QQ在线咨询
    售前咨询热线
    010-8225-4950
    售后咨询热线
    010-8225-4950