• ALD原子层气相沉积系统.-热ALD




    Savannah G2



    基本性能

    ALD设备
    可选腔室尺寸:100mm, 200mm 或 300mm
    标准腔室温度:350℃
    占地面积小
    标配2个气源,可选配6个气源
    性能可扩展,灵活性高
    设备设计精简
    设备内整合了蒸气阱
    可选配多种性能
    Savannah G2 ALD设备优势
    快速ALD工艺处理 (2秒处理AL2O3)
    增强版气源 & 气体传送
    设备控制系统性能高
    新型软件结构
    在线椭圆测量
    整合了在线石英晶体微量天秤
    低压沉积性能高
    批量处理不同气源
    高温手套箱解决方案
    粒子沉积系统
    可选等离子增强ALD性能


     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
    QQ在线咨询
    售前咨询热线
    010-8225-4950
    售后咨询热线
    010-8225-4950