• 等离子辅助ALD原子层沉积设备.



    Fiji G2


    基本性能


    200mm 热/等离子ALD设备

    可选腔室尺寸:100mm, 200mm 或 300mm

    标准基本卡盘温度:500℃,可选配800℃

    远程电感耦合等离子源,300Watt

    标配4个气源,可选配6个气源

    标配4种等离子气体,可选配6种等离子气体

    性能可扩展,灵活性高

    设备设计精简

    在线观察膜层

    模块化设计

    整合ALD蒸气阱

    可选配自动化进样室 


    Fiji G2 等离子辅助ALD设备优势

    增强版等离子源

    增强版气源及气体传送

    增强版控制系统 

    在线椭圆偏振测量

    整合了在线石英晶体微量天秤

    低压沉积性能高

    可选800℃高温版本



     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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