• ALD原子层沉积设备-生产型


    Phoenix G2


    总体描述

    生产型ALD原子层沉积设备

    Phoenix G2是稳定的生产型ALD设备。

    设计灵活,方便使用;

    用于多个操作界面;

    已成为市场领先的生产型ALD设备。


    特性

    Simple and Easy to UseInterface操作者界面简单便捷

    预置工艺菜单,用于多种膜层,包括纳米复合材料膜层;

    工艺腔室大 (Gen2.5) ,可放置大型基片; 

    很多内置的安全性能。


    可选项:

    整合大容量臭氧发生器

    低蒸气气源起泡器

    整合手套箱

    自动和半自动进样机


     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
    QQ在线咨询
    售前咨询热线
    010-8225-4950
    售后咨询热线
    010-8225-4950