• FHR.Star.系列产品


    FHR磁控溅射台


    fhr磁控溅射台

    FHR.Star.XXX 系列产品


    FHR扩散式设备


    研发及工业用自由定制设备

    基于柔性模块理念

    可整合多种工艺

    处理半导体基片的工业标准


    卓越的卷绕技术,工艺腔室一流配备,优越的基片处理能力,我们的集群设备是高科技研发应用的良好选择。此外,集群设计理念是微电子及处理基片类基底的工业标准理念。选择我们,您可以拥有经过测试的工艺及基片尺寸。经要求,我们也可为您量身定做设备。

     

    可整合的工艺

    磁控溅射设备

    热蒸发设备

    化学气相沉积设备 (CVD) / 等离子增强化学气相沉积设备 (PECVD)

    原子层沉积设备 (ALD)

    等离子刻蚀设备 (PE) / 反应离子刻蚀设备 (RIE)

    退火设备 (FLA & RTP)


    扩散式设备典型应用

    半导体

    光学

    传感器

    光伏

     用于光学镀膜的溅射设备 FHR.Star.300

     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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