• FHR.RIE系列产品


    FHR刻蚀设备


    fhr等离子增强化学气相沉积设备

    FHR RIE 刻蚀设备


    基片尺寸

    4",6" or 8"


    薄膜

    SiO2,SixOy,Al,etc.


    RIE设备典型应用领域

    半导体

    MEMS

    光学

     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
    QQ在线咨询
    售前咨询热线
    010-8225-4950
    售后咨询热线
    010-8225-4950