• FHR.PECVD系列产品


    FHR等离子增强化学气相沉积设备


    fhr等离子增强化学气相沉积设备

    FHR PECVD 设备


    基片尺寸

    4",6" or 8"


    薄膜

    SiO2,SixOy,α-Si


    PECVD 设备典型应用

    半导体

    MEMS

    光学

     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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