• FHR实验室ALD原子层沉积设备


    fhr微型实验室真空设备

    FHR 实验室型/小型设备


    FHR.Micro.200-ALD [热 & 等离子加强 ALD 设备]


    经典版本

    -尺寸小且设计紧凑

    -铝制工艺腔室

    -固定式基片托用于最大 ø200mm基片

    -交叉流动模式热 ALD 工艺

    -3条起跑器用管路

    -手动装载/卸载

    -自动处理

    -工艺温度最高 400°C


    可选项

    -PEALD-工艺用 ICP-源

    气体:

    N2, Ar,…

    沉积工艺:

    Al2O3, TiO2, …

     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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