• FHR离子束刻蚀和反正离子刻蚀设备


    fhr-micro

    FHR 实验室型/小型设备


    FHR.Micro.160-IBE-RIE [离子束刻蚀和反应离子刻蚀]


    经典版本

    -尺寸小且设计紧凑

    -不锈钢工艺腔室

    -旋转式和倾斜式基片托用于ø4“基片

    -离子束刻蚀和反应离子刻蚀

    -刻蚀电极 DN250

    -手动操作

    - for Ar, N2, O2, F


    可选项:

    -可升级进样室用于基片自动传输

    刻蚀材料:

    Cu, Si, Ga

     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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