• FHR实验室等离子增强CVD设备


    fhr-micro

    FHR 实验室型/小型设备


    FHR.Micro.150-PECVD [等离子加强CVD设备]


    经典版本

    -尺寸小且设计紧凑

    -铝制工艺腔室

    -固定基片架用于最大ø100mm基片

    -射频模式下PECVD工艺,13,56MHz

    -RF-电极直径 150mm

    -手动操作

    -工艺温度最大为 400°C

    沉积多种膜层


    气体:

    N2, N2 O, SiH4, CH4 , NH3 ,…

    沉积工艺:

    a-Si, SiNx, SiOx, SiOxNy, DLC,

     

    产品类别

    行业咨询

    德国FHR磁控溅射台 (卷对卷蒸发设备、刻蚀设备、原子层沉积设备、PECVD设备及真空设备专用靶材等耗材和备件)
    法国FLOWLINK SA阀门 (Aixtron设备专用阀门、高真空,特气阀门)
    法国ANNEALSYS SAS快速退火炉 (实验室、小批量生产用快速热处理设备)
    美国Ultratech (ALD原子层沉积设备等)
    美国TYSTAR CORPORATION (扩散炉、氧化炉、退火炉、化学气相沉积设备等)
    法国MPA Industrie设备 (广泛用于红外窗口材料、热解碳、太空镜、复合材料、原子能、冶金、纳米材料等领域)
     
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