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FHR磁控溅射设备:采用磁控溅射技术制备精密光学部件

背景:早期薄膜技术在德累斯顿

1961年VEB Elektro­mat Dresden成立,成为生产半导体器件的技术设备的供应商,并于1975年在德累斯顿研发并制造了首台工业用途真空溅射镀膜设备。直至此时,人们才意识到溅射沉积工艺是较之热蒸发工艺更佳的选择,从那时起直至今日,溅射工艺一直是该领域的主导。后来,VEB Elektro­mat Dresden并购,德累斯顿微电子研究院成为VEB微电子研发中心(ZFMT)。两德统一后,前VEB Elektro­mat三位工程师在德累斯顿共同创立FHR An­la­gen­ba GmbH,专注研发将镀膜和刻蚀技术应用到微电子产品的工业创新项目中。


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2019年3月8日
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