010-82254950

法国Annealsys公司介绍

公司图片--RTP

  Annealsys 是2004年5月成立于法国南部蒙彼利埃的民营企业,企业股东均为真空快速退火炉及化学气相沉积方面的专家。所生产设备专门为研发、质量控制和部分生产应用提供解决方案。

 

【我们的理念】
同客户建立长期良好关系
提供可靠、高质量设备
确保低使用成本
提供良好的支持和服务
为此,我们已经在世界范围内建立广泛的客户服务网络

【主要产品】
Rapid Thermal Processing(RTP) 快速退火炉
Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition(RTCVD) 快速化学气相沉积设备
Direct Liquid Injection chemical vapor deposition (DLI-CVD) 直接液体注射化学气相沉积设备
Direct Liquid Injection Atomic Layer Deposition (DLI-ALD) 直接液体注射原子层沉积设备

 

   快速热退火炉设备在半导体、MEMS、纳米技术、硅、太阳能电池、玻璃、光伏光电等行业中有着重要的应用。设备可广泛应用于:接触退火,注入退火,RTO (快速热氧化),RTN (快速热氮化),硅平滑,扩散,致密化和结晶化,硒化,硫化等。

 

    适用大范围类型的基片:硅和化合物半导体晶圆,GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆,多晶硅晶圆,玻璃,金属,高分子聚合物,石墨和碳化硅托盘等。

本网站由阿里云提供云计算及安全服务 Powered by CloudDream